X-射線熒光光譜：作為一種比較分析技術(shù)，在較嚴(yán)格的條件下用一束X射線或低能光線照射樣品材料，致使樣品發(fā)射特征X射線。這些特征X射線的能量對(duì)應(yīng)于各特定元素，樣品中元素的濃度直接決定射線的強(qiáng)度。該發(fā)射特征X射線的過(guò)程稱(chēng)為X射線熒光或XRF.
X射線熒光光譜儀有兩種基本類(lèi)型：波長(zhǎng)色散型（WD-XRF）和能量色散型（ED-XRF)
一臺(tái)典型的XRF儀器的核心硬件包括X射線源與X射線探測(cè)器及多通道數(shù)字脈沖處理器。其中X射線源是提供激發(fā)樣品特征X射線的光源， X射線探測(cè)器檢測(cè)X射線光子的裝置，并能把它的能量按照光子的振幅比例來(lái)轉(zhuǎn)化為具有電子能量的脈沖，而多通道數(shù)字脈沖處理器則能夠?qū)⑻綔y(cè)器轉(zhuǎn)化來(lái)的脈沖信號(hào)進(jìn)行處理，從而得到X射線的能譜圖。
日立X射線熒光光譜儀EA1000AIII通過(guò)將可選項(xiàng)的精度管理型軟件進(jìn)一步升級(jí),并使之成為標(biāo)準(zhǔn)配備，實(shí)現(xiàn)了低價(jià)格化。與以往儀器相比，環(huán)境管制物質(zhì)的測(cè)量時(shí)間大幅縮短，材料辨識(shí)功能、分析線切換功能、清晰易懂的操作面板……易用性大大提高，分析速度更快，操作更簡(jiǎn)單。
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